使用溫度（惰性氣體或者真空條件下）2000℃
導熱性高導熱
抗熱震性和低溫熱膨脹性優
抗酸堿腐蝕性優
體積密度2.3
氮化硼是由氮原子和硼原子所構成的晶體，具有四種不同的變體：六方氮化硼（HBN)、菱方氮化硼（RBN）、立方氮化硼（CBN）和纖鋅礦氮化硼（WBN）。
立方氮化硼作為一種寬禁帶半導體材料，具有高熱導率、高電阻率、高遷移率、低介電常數、高擊穿電場、能實現雙型摻雜且具有良好的穩定性，它與金剛石、SiC和GaN一起被稱為繼Si、Ge及GaAs之后的*三代半導體材料，它們的共同特點是帶隙寬，適用于制作在特別條件下使用的電子器件。
在光學應用方面，由于立方氮化硼薄膜硬度高，并且從紫外到遠紅外整個波段都具有高的透過率，因此適合作為一些光學元件的表面涂層，特別適合作為硒化鋅、硫化鋅等窗口材料的涂層。此外，它具有良好的抗熱沖擊性能和商硬度，有望成為大功率激光器和探測器的理想窗口材料。
氮化硼制備方法：
1、高溫高壓合成法。
在溫度接近或**1700℃，至低壓強為11～12GPa時，由純六方氮化硼(HBN)直接轉變成立方氮化硼(CBN)。隨后人們發現使用催化劑可大幅度降低轉變溫度和壓力。常用的催化劑為：堿和堿土金屬、堿和堿土氮化物、堿土氟代氮化物、硼酸銨鹽和無機氟化物等。
2、化學氣相合成法
利用脈沖等離子體技術在低溫低壓下制備成立方氮化硼(CBN)膜。所用設備簡單，工藝易于實現，因此得到迅速發展。已出現多種氣相沉積方法。傳統來講主要是指熱化學氣相沉積。
3、水熱合成法
此方法是在高壓釜里的高溫、高壓反應環境中，采用水作為反應介質，使得通常難溶或不溶的物質溶解，反應還可進行重結晶。水熱技術具有兩個特點：相對低的溫度；在封閉容器中進行，避免了組分揮發。作為一種低溫低壓合成方法，被用于在低溫下合成立方氮化硼。
氮化硼的應用領域：
1、金屬成型的脫模劑和金屬拉絲的潤滑劑。
2、高溫狀態的電解、電阻材料。
3、高溫固體潤滑劑，擠壓抗磨添加劑，生產陶瓷復合材料的添加劑，耐火材料和抗氧化添加劑，尤其抗熔融金屬腐蝕的場合，熱增強添加劑、耐高溫的絕緣材料。
4、晶體管的熱封干燥劑和塑料樹脂等聚合物的添加劑。
5、壓制成各種形狀的氮化硼制品，可用做高溫、高壓、絕緣、散熱部件。
6、航天航空中的熱屏蔽材料。
7、在觸媒參與下，經高溫高壓處理可轉化為堅硬如金剛石的立方氮化硼。
8、原子反應堆的結構材料。
9、飛機、火箭發動機的噴口。
10、高壓高頻電及等離子弧的絕緣體。
由于鋼鐵材料硬度很高，因而加工時會產生大量的熱，金剛石工具在高溫下易分解，且容易與過渡金屬反應，而立方氮化硼材料熱穩定性好，且不易與鐵族金屬或合金發生反應，可廣泛應用于鋼鐵制品的精密加工、研磨等。立方氮化硼除具有優良的耐磨性能外，耐熱性能也很優良，在相當高的切削溫度下也能切削耐熱鋼、鐵合金、淬火鋼等，并且能切削高硬度的冷硬軋輥、滲碳淬火材料以及對磨損非常嚴重的Si—A1合金等。
氮化硼的貯存方法：
氮化硼貯存方法：應貯存在通風良好的干燥庫房內，防止受潮。
氮化硼纖維貯存方法：貯存于通風良好、干燥庫房內。空氣中允許氮化硼**濃度為6mg/m。
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